• 更新:2025年07月18日

二次電池や化合物半導体材料である当社硫化スズナノ材料を提供

カルコジェニック株式会社

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硫化スズ粉末

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自社特徴

当社は二次電池であるリチウムイオン電池や全固体電池などの負極材向けとして硫化スズ粉末を開発しました。本硫化スズ粉末は当社が開発した分散性に優れた硫化スズ分散液に対して導電助剤であるアセチレンブラックを添加し、均一混合させた粉末になります。95wt%硫化スズに対して5wt%アセチレンブラックを添加した硫化スズ粉末を例にあげると、本硫化スズ粉末の粒子径は流体力学的直径394.0nmとナノスケールの粒子になります。また、本硫化スズ粉末は粒子径・添加剤の種類・添加量等の変更も検討が可能です。

一般的に、硫化スズの結晶構造はグラファイトのような層状構造であることから、2次元材料として、さまざまな電子デバイスへの応用が期待されています。とりわけ、リチウムイオン電池の負極材に硫化スズを使用した場合、硫化スズ負極は黒鉛負極に対して体積あたりの理論容量が約4.7倍、重量あたりの理論容量が2.1倍、かつ、高速充放電性能に優れていることも報告されています。体積あたりの実放電容量においては硫化スズ負極は酸化珪素(SiO)負極に勝る高容量負極材となります。また、硫化スズを構成する元素は硫黄と錫であることから自然界に豊富に存在し、量産時のコストダウンが期待されます。

本硫化スズ粉末の使用用途はリチウムイオン電池に加え、全固体電池等の次世代二次電池、リチウムイオンキャパシタ等の大容量キャパシタ、各種センサー、固体潤滑剤等への活用が想定されます。

また、硫化スズ分散液や硫化スズナノシートは光吸収性に優れた材料になります。紫外線から近赤外線領域まで光吸収をすることができるため光学フィルター等の光学デバィスや太陽電池等の活用が想定されます。



 

提供リソース

・硫化スズ粉末・分散液・ナノシートの提供、及び、それに伴う技術的な提案 ・試作設備の設計開発

解決したい課題

当社の硫化スズナノシートや硫化スズ分散液・硫化スズ粉末を使用してい、リチウムイオン電池や全固体電池の2次電池負極材、リチウムイオンキャパシタ等の大容量キャパシタ、ガスセンサー等の各種センサー、半導体、光学フィルター等の光学デバイス、固体潤滑剤、光触媒・太陽電池・ピエゾ素子等へ展開を一緒に検討される企業様を探しています。それ以外の分野においてもの企業様のご要望に対応致します。以上、お気軽にご連絡をお願い致します。

共創で実現したいこと

リチウムイオン電池や全固体電池等の製品開発。

光学フィルター等の光学デバイスの製品開発。

硫化物層状ナノ材料を生かした製品開発。

求めている条件

半導体・光学デバイス・2次電池・固体潤滑剤等の製品開発を行っているメーカー、または、製品開発能力を持ち合わせているメーカー、協業先をご紹介していただける商社様を応募しています。上記以外のご提案も歓迎しています。

こんな企業と出会いたい

ビジネス領域

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オープンイノベーション実績

当社は、大学との連携にて起業した企業になります。

企業情報

企業名
カルコジェニック株式会社
事業内容
14族カルコゲナイド材料、硫化スズ(SnS)と硫化ゲルマニウム(GeS・開発中)の粉末・分散液・ナノシートの研究開発、製造販売をしています。
所在地
東京都羽村市緑ケ丘1-5-12 マンション中野 102号室
設立年
2020年

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選択しているビジネス領域の企業

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私たちは、四国化成グループの主力事業のうち化学品事業を担い、タイヤの原料、プール水の殺菌消毒剤、エポキシ樹脂の硬化剤、プリント配線板の耐熱型水溶性防錆材などを製造・販売する企業です。1947年、香川県丸亀市で「二硫化炭素メーカー」として創業以来、「独創力」を企業理念とし独自性のある技術とニッチ領域への積極展開によって、現在の事業規模に成長してまいりました。今後の新たなステージへの飛躍と2030年を見据えた長期ビジョン「Challenge1000」の実現に向けて、以下3部門で新規事業開発を目指しています。▼各部門の特徴▼【有機化成品(塩素化イソシアヌル酸)】・塩素化イソシアヌル酸の製造において、国内初の量産化に成功・プール用殺菌消毒剤「ネオクロール」などの製品を開発・製造・独自の配合加工技術により、塩素化イソシアヌル酸を用いた高塩素・高アルカリ組成の製品を提供し、少量でも強力な漂白力や除菌力を実現【無機化成品(硫黄化合物)】・タイヤの主流となっているラジアルタイヤの製造に欠かせない不溶性硫黄「ミュークロン」を製造・危険性の高い硫黄、二硫化炭素、硫化水素を工業レベルで安全に取り扱う技術及び工場を保有【ファインケミカル(銅錯体)】・1968年にイミダゾール化合物の製法を確立し、日本初の事業化に成功・1969年にイミダゾールの応用製品である、プリント配線板などの電子部品用水溶性防錆剤の生産を開始・現在は「電子部品」「半導体」「プリント配線板用薬剤」向けに高機能材料を開発/製造

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固体潤滑処理(テフロン、WS2, MoS2等)に強み。対象領域は医療、航空、自動車、食品、紡績、一般工業など多岐にわたる。中国上海の自社工場で大規模な加工処理が可能。また、米Micro Surface社のWS2固体潤滑処理における中国での指定技術代理店としても事業を展開。

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